硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面产生高损伤层。
氧化硅抛光液 氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。 广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
地坪抛光液的性能特点 1、光亮剂形成的膜层可以有效阻止酸、碱、溶剂、汽油等污染物的渗透，使表面更容易冲刷和清洗。 2、光亮剂不同于蜡水，它和混凝土表面结合牢固，其形成的膜层渗透在材质缝隙中，可长期起到封闭作用。 3、具有很高的防污防尘效果和极好的抗水性。 4、提高表面的光亮度。 5、降低表面阻力提高耐磨性。
至于封釉的频率，与车子的使用率和空气环境、洗车次数有直接的关系。一般的车封完釉保养得好的话一年左右就要再封第二次。以杭州的天气来讲，封釉间隔大约是3到4个月。 别看只是清洗，却很有讲究。清洗剂要使用中性的，因为碱性的清洁剂会腐蚀车漆，如果残存在车体缝隙中，腐蚀性就更大了，建议您使用中性洗车剂，避免伤害车漆。